輻射固化技術基礎化學
時間:2021-05-20 14:42來源:未知點擊: 次
輻射固化的基本化學反應是由UV或
EB輻射(主要使用UVUV輻射)引起的
不飽和化合物聚合。UV和EB兩種固化方法之間的差異在于能量和生成的差異
自由基不同的來源。 就固化系統而言,UV固化系統必須包含
光引發劑,而
EB固化體系不包含
光引發劑。 此外,它們的其余部分由低聚物組成,即
活性稀釋劑,
阻聚劑,輔助劑。該試劑由四個部分組成。 低聚物是在末端具有不飽和基團的大分子化學物質,其決定了固化膜的基本性能。 目前,常用的低聚物是
雙酚A環氧丙烯酸酯,
聚酯丙烯酸酯,
聚醚丙烯酸酯,
聚氨酯丙烯酸酯和
不飽和聚酯八種化合物。
活性稀釋劑是末端帶有不飽和基團的單體化合物,分為兩種類型:單官能和多功能,例如
三甲基丙烷三丙烯酸酯,
四甘醇二丙烯酸酯,
乙烯基吡啶,
苯乙烯和其他十種 化合物。 常用的
光敏劑是
自由基型光引發劑,在UV照射后變成激發態,引起分裂而產生
自由基,或者由
三級胺的組合使用或
碳氫化合物并存提取出氫而產生
自由基,常用
光敏劑有
安息香雙甲醚,二甲苯等九種化合物。
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